# Susceptores y portadores de oblea

Susceptores, portadores de oblea y barcos de grafito de alta pureza para epitaxia y CVD.

Family: Aplicaciones de semiconductores

## Description
El **lugar** es un reactor de epitaxia o una cámara de CVD. La **aplicación** es el susceptor, el portador de oblea o el barco de grafito que sostiene el sustrato y transfiere calor.

Esta pieza no es un dado de prensado, ni un liner de horno de tratamiento térmico, ni una pintura de desmoldeo. Es un componente de proceso de alta pureza, fabricado a plano.

ESGRAF maquina susceptores, discos, platos y barcos a partir de grafito isostático de alta pureza. Indique proceso (epitaxia, CVD, LPCVD), atmósfera, temperatura, geometría y requisito de pureza para cotizar.

## Processes
- Epitaxia de silicio o SiC
- CVD y LPCVD
- Soporte y calentamiento de oblea

## Challenges
- Contaminación de la oblea por partículas o impurezas
- Deriva dimensional del susceptor con los ciclos
- Uniformidad térmica insuficiente sobre el sustrato

## Advantages
- Grafito isostático de alta pureza
- Geometría maquinada a plano
- Estabilidad dimensional a temperatura

## Limitations
- Oxidación en aire a alta temperatura
- Un recubrimiento de SiC o una purificación a ppm se evalúa contra el grado disponible; no se asume de catálogo
- El diseño eléctrico y térmico del reactor lo define el equipo, no el material solo

- [Applications](https://esgraf.com/aplicaciones)
- [Alternate](https://esgraf.com/en/applications/semiconductor-susceptors)